海力士裝備及屬性,海力士吧

大家好，今天小編關注到一個比較有意思的話題，就是關于海力士裝備及屬性的問題，于是小編就整理了1個相關介紹海力士裝備及屬性的解答，讓我們一起看看吧。

傳上海微電子研發出11nm光刻機，請問是真的嗎？有誰知道？

傳上海微電子研發出11nm光刻機，請問是真的嗎？有誰知道？據傳上海微電子明年將交付可以28nm制程工藝的光刻機，經過多重曝光可以制造11nm芯片。不過這個消息上海微電子的官方消息并沒有披露或回應，還沒有實錘，是否真是如此還顯得撲朔迷離。

國內光刻機研發進度相對比較緩慢，但因為美國對我國科技的極端打壓、以及特別是國外對我國高科技技術及產品的禁運，現在可以制造低納米的高端光刻機顯得又緊迫又非常有必要。上海微電子經過18年的發展歷程，在低端光刻機市場擁有不小的份額，但在中高端光刻機市場還沒有沖擊力，目前還僅限于90nm級制程工藝。

國外ASML的EUV光刻機可以達到13.5nm的波長，可以達到7nm制程工藝的芯片制造，經過如臺積電這樣的廠家制造工藝技術的研發，甚至可以達到制造5nm的芯片。而相對來說，上海微電子的距離還相當遠。

明年是否能夠實現28nm制程工藝的光刻機，恐怕也是外界對于上海微電子的期許，也是上海微電子自身的需要，畢竟90nm級已經出來了十多年了，還幾乎停止不前也有些不太合理。據傳，28nm節點的光刻機是十三五規劃項目，研發單位已經由中科院光電所研發解決光源、清華團隊研發雙工件臺、浙大團隊研發浸液系統、還有長春光機所研發透鏡及曝光系統等，由不同的零部件制造廠家生產，這為上海微電子加速了28nm浸沒式光刻機的出世。

目前上海微電子裝備中心能夠生產出最好的光刻機，依然是90nm光刻機。據報道，上海微電子將在2021年交付采用ARF光源制程工藝為28納米的光刻機。也就意味著上海微電子裝備有限公司在2021年才可以制造出28nm的光刻機，顯然上海微電子裝備有限公司研發出11nm的光刻機，這條消息是假的。

國產光刻機與世界頂級的光刻機有多大的差距？

上海微電子裝備有限公司生產的90nm光刻機就是目前我國最好的光刻機，聽到這個消息，大家可能會感到非常的吃驚，但是事實就是這樣的。世界上最好的光刻機是由荷蘭的ASML公司生產的5nm光刻機，今年即將發布的麒麟1020處理器以及蘋果A14處理器你都是采用的5nm制程工藝。

雖然說，上海微電子裝備有限公司已經生產出了90nm的光刻機，但是實際意義并不是很大，也解決不了目前我國的芯片問題。90nm技術已經滿足不了現在芯片的需要了，我們現在手機以及電腦使用的芯片，已經達到了14nm、7nm，甚至5nm。我們現在還停留在90nm光刻機上，所以國產光刻機與世界頂級的光刻機有著2-3代的差距，我們還需要十年左右的時間才可以達到7nm技術。

我國為什么做不出先進的光刻機？

其實我國研發光刻機的時間并不是很晚，我國做出第一臺光刻機時，荷蘭ASML公司都還沒有成立。在八十年代的時候，我們的企業產生了“買辦”的思想，很多企業覺得自己去研發，不如去買。因為研發需要投入太多的資金，并且風險也非常的大，不如直接購買國外的光刻機。從那以后，我們的光刻機技術與國外光刻機技術的差距越來越大了，以至于我們現在用十年的時間也追趕不上了。

近幾年很多企業也越來越重視光刻機的研究，但是已經晚了。對于一臺光刻機來說，有8萬多個零件，幾乎每一個零件都是世界頂級的。光刻機最重要零部件就是光源與鏡頭，目前極紫外光源技術只有被ASML掌握了，自然ASML不會將極紫外光源賣給我們。全球范圍內能生產出最好的鏡頭的企業是德國蔡司，根據西方國家簽訂的《瓦森納協定》，西方國家一些精密零件是不能向我國出口的。所以說即使將頂級光刻機的設計圖紙給我們，我國也做不出來，這句話一點也不假。

筆者觀點：

光刻機的發展并不是一蹴而就的，需要長期的積累。ASML生產的光刻機，也并非都是自己生產的，美國、日本、德國等國家都在參與。

既然我們買不到先進的光刻機以及光刻機的零件，那我們只能自己造。光刻機的問題并不是一家企業可以搞定的，需要我國整個半導體行業的共同努力！

這是假的，目前的水平是90nm，預計于明年研發出28nm的光刻機，所以什么11nm，明顯就是假的。

一、上海微電子的水平

上海微電子說起來其實也算是全球第四大光刻機廠商了， 不過在光刻機領域，目前出名的也就四家，分別是ASML，尼康、佳能、上海微電子。

而這四家廠商目前能夠量產的光刻機節點水平如下圖所示，上海微電子是屬于最差的那一家，還是處在90nm，而ASML是最強的那一家，已經進入到5nm了，就算ASML從此不前進了，讓上海微電子追，也要至少10年才追得上。

二、光刻機研發的難點在哪里？

那么光刻機的研發難點在哪里？很多人覺得可能是元件，其實光刻機的原理并不復雜，就是投影儀+照相機，最關鍵的元件也就是光源，但其實它也不那么重要。

就是用光源把芯片的電路圖投射到涂了光刻膠的硅晶圓上，硅晶圓涂了光刻膠，是一種光感材料，就會顯示出電路圖來，這中間光學技術運用得比較多。

    對于我國來說，光刻機又是一項“卡脖子”設備。上海微電子能夠量產90nm工藝的光刻機，而荷蘭ASML最新的光刻機可以生產5nm芯片。最新消息，2021年上海微電子交付28nm光刻機，在多次曝光的條件下，可以生產11nm芯片。這是真的嗎？下文具體說一說。

    上海微電子即將交付的是一臺ArF光源光刻機，核心配件全部來自于國內供應鏈：

    這些核心配件由上海微電子負責總體集成，其中華卓精科工作臺的套刻精度指標優于1.7nm，經過多次曝光有生產11nm制程工藝的潛力。中微半導體也推出了5nm制程的蝕刻機，南大光電研發出193nm光刻膠，華為自研的EDA進行了7nm驗證。總之，國產11nm光刻機即將來臨。

    目前，光刻機領域的龍頭企業是荷蘭的ASML，占據了80%的高端光刻機市場，其中EUV光刻機只有荷蘭ASML能夠生產。EUV光刻機集合了世界上最先進的技術，可以說是集人類智慧于大成。

    其實，荷蘭ASML也只是系統集成商，90%的關鍵零部件來自于外來，美國的光源和計量設備、瑞典的軸承、德國的鏡頭、法國的閥件等等，這些超精密的儀器和設備大部分對我國是禁運的。由于技術封鎖，一定程度上阻撓了我國光刻機技術的發展。

光刻機是芯片生產關鍵設備，ASML的EUV光刻機可量產7nm芯片

光刻機最核心的部件是鏡頭和激光光源，而在這兩項技術上，中國因起步晚，還在追趕荷蘭日本等國家。目前全球能生產5nm及以上的光刻機只有荷蘭的ASML一家企業，ASML掌握了極紫外光源技術，可以生產7nm及5nm的芯片。

而極紫外光源技術也并非ASML獨家研發的，在研發前期，是多國參與的，包括了歐洲多國，還有日本韓國等國家。ASML的EUV（極紫外光刻）光刻機包含了多個國家的專利，可以說是是全球人類智慧的結晶。

“光刻”的意思是用光來制作一個圖形，而“光刻”是通過光刻機來實現的。光刻機可以簡單的理解為一種用紫外線在硅片、石墨烯等晶圓上刻集成電路的系統設備。

縱觀全球光刻機市場，通常情況下都是由荷蘭ASML公司為主導，僅僅只是荷蘭ASML一家便占據了全球89%以上的市場份額，而三星和臺積電這些知名芯片制造商，通常都離不開ASML光刻機的支持。一臺光刻機的零配件高達5萬個，制造過程極其復雜，被譽為“現代光學工業之花”。

國內情況

我們國家光刻機研發起步晚，但追趕速度很快。目前光刻機全球梯隊中，荷蘭ASML排名第一，是唯一一家可以生產EUV光刻機的廠家。其次是日本的佳能還有康尼等公司，也可以獨立生產光刻機，但是面對的市場是中低端芯片市場。排名緊隨其后的是國內的上海微電子裝備（集團）股份有限公司，雖然也能夠生產出來光刻機，但目前只能夠生產出來90nm的光刻機。

雖然我們國內的技術水平還無法量產7nm芯片，但最新報道消息稱，上海微電子預計在今年12月，將可能下降首臺采用ArF光源的可生產11納米的SSA800/10W光刻機。當前，由上海微電子主導研發的首臺國產11nm光刻機所采用的核心器件技術領域，依附在浙江大學研發團隊的啟爾機電推出了可用于最高11nm制程浸沒式光刻機的浸液系統，在加上5nm蝕刻機和193nm光刻膠基本實現純國產，所以在國產技術的支持下，上海微電子光刻機低調斬獲2400項專利技術，有望成為光刻機國產的希望。

雖說在光刻機領域我國取得了新的進展，但是目前國內光刻機生產所需要的零部件依然需要從國外市場進口，很顯然在光刻機的生產過程中，我國對國外的依賴還是比較大的。不過，不管多難，我國企業都不能放棄，光刻機的自主研發是一個漫長的過程，日后還需要不斷努力，爭取將核心技術和供應鏈全都掌握在自己手中，期待日后國產光刻機能夠在國際市場中取得更好的成績，讓國產芯片在全球市場立足！

到此，以上就是小編對于海力士裝備及屬性的問題就介紹到這了，希望介紹關于海力士裝備及屬性的1點解答對大家有用。